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石英玻璃生產工藝復雜，主要因為石英玻璃純度高、熔化溫度高、粘度大，并要求高透明度（85%以上）。為解決高溫熔化問題，采用氫氧氣為熱源，溫度可達2000℃；利用電熱可以獲得很高溫度，電熱溫度的高底取決于加熱元件材質的耐溫性，用石墨、鎢、鉬材料作為加熱元件溫度可達2100℃；而鎢、鉬基本上不與SiO₂反應；采用電弧法可獲得3200℃高溫，所以用高純石墨做電板放出電弧來制造石英玻璃坩堝。由于SiO₂熔融時粘度大，氣泡、氣線不容易排除，采用真空熔化，高溫加壓溶解氣泡、氣線，采用分層加料，依靠表面張力來排除氣泡、氣線。新技術等離子、激光可以獲得高溫，也都用來熔化生產石英玻璃，其中等離子加熱已投入生產。這里介紹幾種常用的石英玻璃生產工藝。

1、單棒電熔爐工藝 以熔煉水晶為原料，Φ30—60mm×1200—2000mm的石墨棒，通電加熱，熔化溫度依靠表面功率來控制，溫度達到1900℃時將熔煉水晶熔化，此時SiO₂+C→SiC+CO↑反應使石英玻璃與石墨棒分離并產生一定內壓，溫度繼續提高，不會再起硅炭反應。該工藝可以生產石英玻璃磚、各種不透明石英玻璃器皿（石英玻璃筒、石英玻璃管、石英玻璃坩堝等）。

2、真空電阻爐及真空加壓爐工藝 由真空常壓爐經技改為真空加壓爐，爐子有大、中、小三種，最大的直徑4米，加熱依靠一排石墨棒，烤化爐內的熔煉水晶，可以生產大塊光學石英玻璃，現在軍工用的紅外光學石英玻璃全部用它生產；中型的直徑1m—1.5m，用來生產高捏紅外光學石英玻璃，用機械真空泵和羅茨泵抽真空，可達10^-4mm Hg，加壓用瓶裝氮氣，一般20—25kg/cm²，做光學石英玻璃的原料都是經過特殊加工的一級熔煉水晶；小型真空加壓爐Φ650mm高800mm，生產石英管用J—550或H—8真空泵抽真空，高溫真空度10-1mm Hg,用石墨坩堝為熔器。國外：法國、日本、美國（50—60年代）用真空爐熔化石英坨，再用石英坨二次在電阻爐內拉管，用這種方法可以生產大直徑管（Φ80—Φ200mm）用于電子工業。

3、電熔連熔爐工藝 以水晶砂或高純石英砂為原料，鎢、鉬材料作為熔化溶器和通電加熱材料，溫度可達2100℃以上，連續加熱、連續加料、連續拉制石英玻璃管，正常生產一般為連續一年左右。國產連熔爐工藝有很多缺點，自從東海縣石英制品總廠引進國外全套技術、工藝及設備，經過消化吸收、技術創新，促進了中國石英玻璃行業整體水平有了很大提高，照明用透明石英玻璃管已接近或達到國外先進水平（OH-<3ppm），并出口國外，推動了中國照明用石英玻璃產量、質量上了新的臺階。

4、氫氧氣煉工藝 該工藝是先用電解制氫氧技術，能生產大量氫氧氣，然后大量生產半導體技術用石英玻璃產品，其中有管子、坩堝，石英玻璃成器器皿、光學石英玻璃等。該工藝為無接觸法生產，所以純度高。采用分層熔化排除氣泡，采用優質水晶做原料。

5、電弧法工藝 利用電弧的高溫制造石英玻璃坩堝，節能，可以制造大規模產品，該工藝可以生產Φ8"—Φ16"石英坩堝，也可以生產石英玻璃大鐘罩，用于多晶硅生產。

6、氣擔沉積工藝 采用化工原料SiCl₄或SiHCl₃為原料，在氫氧焰或者等離子火焰中熱分解、水解：SiCl₄+H₂+ O₂→SiCl₄+H₂O→4HCl+ SiO₂，此時的SiO₂是水解產物呈煙霧狀，沉積在石英靶面上，制成石英坨，再冷加工成光學產品，也可入電阻爐拉管，拉棒。該產品純度高，金屬雜質總量1—5ppm。但羥基含量高達1200ppm，作為光學產品用石英玻璃，紫外線透過率好，耐輻射性能也特別好，可用于航天技術，精密光學儀器。

7、二步法工藝 該工藝是把氣煉和電熔二個工藝綜合起來，也就是用真空電阻爐生產石英坨，再用石英坨電阻爐中二次拉管，可拉制成Φ80—Φ150mm大直徑石英玻璃管，用于半導體技術。

8、摻雜工藝 石英玻璃是SiO₂單一成份，才有那么多優良性能，摻雜是為了吸收紫外線；有一些產品如激光燈、無臭氧燈等，希望石英玻璃吸收某一波段紫外線，同時還要保留石英玻璃其它性能，這就出現了摻雜工藝，摻雜元素是特定的幾種能吸收紫外線，如：Ti、Ce、Eu等元素，而且量都很少，一般只摻幾十至幾百ppm（1000ppm=1%），所以一般摻雜量為0.05%—0.2%。

9、石英玻璃的熱加工技術 俗稱玻璃燈工，是玻璃儀器、器皿加工技術延用過來的。石英玻璃儀器、器皿就是手藝性極高的玻璃燈工師傅用氫氧焰燒、吹、焊而成的。用的原材料是石英玻璃管、石英玻璃棒、石英玻璃板。

10、等離子無接觸氣煉工藝 該工藝采用等離子打坨（實際上是厚壁Φ150—Φ180mm，內徑Φ70—Φ80mm），而后經過冷加工（打孔、磨外圓、拋光內圓），再將厚壁管吊入中頻爐無接觸加熱、拉管（石英玻璃與加熱元件“石墨”不接觸），防止石英管污染，等離子打坨也是不接觸的（不與任何耐火材料接觸），因為全部生產（在高溫時）都不與耐火材料接觸，所以產品純度極高。