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在正常熔制情況即氧化或中性氣氛下如以SiCl4為原料

氫氧焰為熱源高溫水解氣相沉積合成的石英玻璃和以水晶為原料、氫氧焰為熱源煉熔制的石英玻璃中大部分羥基呈穩定狀態，制品的規格尺寸大的話，即使脫羥基時間再長也很難將其中的羥基全部脫出。通常0.5~1.0mm厚合成和氣煉石英玻璃片在真空或干燥的N2、1050℃的脫羥條件下，經過140h以上方可脫出50%左右的羥基，時間再長幾乎不再脫出。

而在富氫的還原性氣氛下熔制的石英玻璃如以H2為保護性氣體的連熔爐熔制的石英玻璃，由于氧缺陷的存在，石英玻璃中的羥基亞穩狀態，很容易擴散放出H2，如1~1.5mm厚的煉熔石英玻璃管在真空或流動的干燥N2、1050℃的脫羥條件下，經過2h即可脫出90%以上的羥基。

同樣，若在富氫的還原性氣氛下合成或氣煉的石英玻璃，相同脫羥條件，也可大幅度增加脫羥量。